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臺積電沖刺先進制程,高雄2nm廠擴建

2024年12月16日 07:22  集微網(wǎng)  

臺積電高雄新廠2nm進度超前,有意擴大高雄投資,規(guī)劃于前中油高雄煉油廠土地興建第三期廠房(P3),第四期(P4)、第五期(P5)也啟動環(huán)評,并爭取擴大開發(fā)面積,將在P3東側(cè)接續(xù)擴建,延續(xù)先進制程。根據(jù)規(guī)劃,P3廠在2026年完工后,預計P4、P5廠也將在2027年接力完工。

法人看好,臺積電擴大高雄先進制程投資,意味客戶訂單持續(xù)涌入,公司有必要增加更多產(chǎn)能,為后續(xù)運營增添更多動能。

臺積電在中國臺灣布局2nm,新竹寶山、高雄新廠兩路并進,預計2025年量產(chǎn)。高雄廠是臺積電在當?shù)氐氖鬃?2英寸廠,原定以成熟制程切入,2023年8月董事會拍板朝2nm擴充發(fā)展,原規(guī)劃相關設備最快2025年第三季進機,已提前至11月底進機,較原計劃超前半年以上。

臺積電高雄廠布局順遂,規(guī)劃在原中油高雄煉油廠土地內(nèi)興建P3,但全球半導體業(yè)急劇變動及國際競爭力,基于產(chǎn)業(yè)制程全球布局考量,仍具緊迫持續(xù)推動建廠運營需求,規(guī)劃在P3廠房旁土地啟動擴建P4、P5計劃,發(fā)揮產(chǎn)能群聚綜效。

根據(jù)環(huán)評數(shù)據(jù),臺積電正爭取擴大P4、P5開發(fā)面積,原本10月規(guī)劃面積約41公頃,最新定案面積增至43公頃左右,加計原申請的P3廠面積后,合計基地面積約60公頃。臺積電12月26日將召開“原中油公司高雄煉油廠土地新建半導體廠擴建計劃”環(huán)境影響說明書公開會議,正式對外說明。

臺積電在一期園區(qū)啟動第一期(P1)、第二期(P2)建廠后,今年啟動P3擴建計劃,但擴廠用地迫切,決定在P3廠旁接續(xù)啟動P4、P5廠擴建計劃。

編 輯:章芳
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